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桌面式车铣磨一体的超精密金刚石车床。面向 φ80–100mm 口径的红外镜片、光学镜面与精密模具，一次装夹完成镜面车削、铣削与磨削，适合实验室与小型产线并线部署。

• 红外光学
• 航空航天
• 消费电子
• 精密模具
• 车铣磨一体

主轴立式布局、工件端面朝上装夹，面向 φ10–200mm 中小规格端面件与精密元件的纳米级端面与曲面车削。大理石基座 + 纳米光栅全闭环 + 主动隔振 + 精密温控，可选 X/Z 两轴或 X/Z/B 三轴联动。B 轴控制切削点固定，显著降低刀具圆弧误差对面形的影响，适合陡峭非球面。

• 立式端面集成
• 三轴联动固定点车削
• 亚纳米动态精度
• 成本为进口同类 1/3–1/2

X/Y/Z 三轴直线电机直驱、C 轴力矩电机连续分度，在 1060×940mm 镍基版上直接车出周期 140–180μm、槽深 20–50μm 的光栅与微结构阵列。45 个 20×20mm 单元四轴联动无缝拼接消除累积误差，一次成型即达光学级镜面，无需后续抛光；经直线度一次与二次补偿后，衍射波前 PV 可改善至约 83nm。

• 防伪印刷光栅
• 光谱仪器光栅
• AR 光波导镜片
• 微透镜阵列
• 衍射光学元件 DOE

面向大长径比辊筒的卧式辊雕专机。加工长度 1200mm、加工直径 Φ300mm、工件重量可达 1t，用于微纳压印辊筒、光栅母辊与防伪压印辊的镜面车削；辊筒类工件一次装夹完成全长车削，避免分段接刀。

• 压印辊筒
• 光栅母辊
• 防伪压印辊
• 长径比辊筒

面向中大口径平面与球面的超精密卧式车床，最大加工口径 Φ320mm。X/Z 两轴直线电机直驱、液体静压或气浮导轨、纳米光栅全闭环，主轴端面与径向跳动 ≤15nm。

• 大口径平面
• 球面与非球面
• 红外窗口

桌面级机身、实验室级精度。整机占地小于一张实验台，适合样件研制、工艺验证与小批量纳米级车削；对场地与配套要求低，可快速部署到高校与研究所实验室。

• 桌面级
• 实验室部署
• 样件研制

立轴转台结构的超精密平面研磨机：工作台面端面跳动 0.000050mm、磨削表面 Ra 0.05μm、台面回转精度 0.05μm（50 纳米）。适用于陶瓷、玻璃、宝石、硬质合金与半导体衬底等硬脆材料的镜面研磨，转台转速 0.000001–30,000 r/min 无级变速，载荷 0.1–500kg。

• 硬脆材料
• 陶瓷 / 玻璃 / 宝石
• 半导体衬底
• 镜面研磨

在 GM3207B 主机基础上增加 IC 专用洁净接口、专用冷却液系统与在线检测配置，面向 12 吋及以下晶圆的背面减薄：可将晶圆减薄至 100μm 以下，台面 Φ320 覆盖 12 吋，表面 Ra 0.05μm，台面端面跳动 0.000050mm。

• 晶圆减薄
• 12 吋兼容
• 洁净接口
• 专用冷却液

以 ArF 准分子激光（193nm）多光束干涉直接曝光，一次形成纳米级周期条纹，不需要传统图形掩模版：图形线宽 ≤55nm、线性光栅周期 ≤120nm、4 英寸晶圆、有效图形面积 ≥94mm、光强均匀性 ≤2%、对准精度 ≤0.8μm。换图形只需改光路与相位掩模版，不必重做一套铬版。

• 衍射光栅制备
• 半导体工艺
• 科研计量
• 相位掩模版

单点金刚石车床的最终面形，取决于主轴回转精度与导轨直线度。光波科技的气浮主轴、气浮导轨与气浮转台全部自研自制：整机与部件同源，精度链条没有外购黑箱，也为客户提供单独采购与替换进口部件的路径。

空气支撑 + 空气驱动的高速气浮主轴，转速 0.1–120,000rpm，最大动态跳动 DRO 0.1μm@300rpm，同步径向偏摆 <1μm、非同步径向偏摆 <0.25μm，ER11 自定心夹头最大夹持 6.35mm。

最高转速 200,000rpm 的空气电主轴。出厂实测：轴向浮动 5μm、静态偏向 ≤1μm、动态偏向 ≤6μm、夹头结合率 99%，静态与动态精度均优于标准值。

转速 1–300,000rpm，最小钻孔 0.05mm、最大 6.35mm；连续输出 750W，水冷散热 700W，磁阻/TTL 转速传感，适用于微孔钻削与微小刀具磨削。

径向与轴向回转精度均 ≤0.05μm，功率可选 0.5–6kW，径向与轴向承载均大于 40kg（可按用户要求定制），气冷或水冷可选，适合重载精密磨削与大型光学件加工。

800W（220V）、0–24,000rpm 无级调速，ER11 夹头夹刀孔径 1–7mm，外形直径 65mm、长 195mm、夹头段 35mm，净重 2.8kg。油脂润滑、水冷，须配变频器使用。

高速钻铣电主轴，三款规格 6.00 / 5.50 / 4.50 kW，均为 380V、18,000 r/min、回转跳动 0.1μm，ER32 轴端接口，IP54 防护、气冷、手动换刀。

圆柱轴 + 气浮滑座结构，可单滑座或双滑座配置；定位精度 ≤0.1μm、位移精度 ±0.2–0.5μm、导轨刚度 8kg/μm、最大加速度 5G，径向承载 0.1–600kg，行程 500–2000mm（11 档标准规格，最长可定制至 4000mm）。

双层气浮静压结构的小行程精密滑台：闭环定位 ±50nm、重复定位 ±20nm、最小步进当量 1nm、运动直线度与平面度 ≤0.1μm/25mm，气浮间隙 8–15μm 非接触，配 0.1nm/1nm 分辨率纳米光栅尺。

ABR 标准系列覆盖 φ120–φ300 六档台面，轴向跳动 <0.1–0.3μm、径向跳动 <0.1–0.4μm、承重 300–2000N，配圆光栅全角分度优于 ±1″；φ300 以上可定制至 φ1000mm。

面向大口径光学件与大型检测平台的大直径气浮转台，钢架底座 + 气浮回转结构，台面直径与承载按工件尺寸定制；底座材料可选配钢架或大理石（花岗岩）。

主轴精度 ±0.035μm、系统精度 ≤0.05μm、测量分辨率 0.01μm、最大采样 8192 点/周。可测圆度、波纹度、同心度、同轴度、平行度、平面度、垂直度、偏心与跳动量；转台有效直径 GP326H 200mm / GP316H 256mm / GP306H 300mm，测量高度 450mm。